急——关于一个多孔介质的问题请教各路大神

hlg2001

大家好
我近期模拟一个有关多孔介质的模型，开始用多孔跳跃的方法模拟，效果很好，流量，压力什么的都跟实际很接近，唯一流场不好，原因是直通孔跟来流速度有15°角，而且孔板的面积比较大。
现在用多孔介质模型的方法来稳流，想把流场也模拟出来。但是用多孔介质的时候，不管怎么初始化，计算结果中，多孔介质部分的速度总是开始初始化时候的速度一样大，根本没变，而且多孔介质后的流场也比较乱，多孔介质前后两侧的速度跟周围相差很大，有很明显的分界线，看起来流体根本没有流进去的样子。
我多孔介质的设置是：（跟多孔跳跃的设置一样）
可压，虚拟速度计算，K-Ω方程-SST，参数是1/a=5e+07，c2=15000，孔隙f=0.3，
现在请教大家的问题是，出现这种情况的原因是什么，应该怎么解决补：初始化按远场和出口等几种都试过

[ 本帖最后由 hlg2001 于 2011-4-13 14:18 编辑 ]

xrs333

两个可能：
不同单元区之间的界面是否被设成了wall。
或
多孔介质主方向设置错误。

hlg2001

边界条件我检查了都是对的，阻力方向我也试过改了顺序换了其他方向，结果还是一样的，按不同的速度在孔后进行pach，结果出来的速度大小还是pach时的速度，流体依然没流进去
关键问题是流体的在没到孔之前的速度方向和直通孔的方向基本上是垂直的，这样速度损失很大，完全靠的是附面层及周围的压力差把流体的速度方向改变。到多孔介质的时候又有一定的损失，这里出现的问题是为什么流体进不去多孔介质。当C2值为0 的时候流场挺好的，流量偏大。